C-43型 9英寸 國產高精度光刻機 多點光源曝光頭

C-43型9英寸國產高精度光刻機多點光源曝光頭是一款專用于中小規模集成電路、半導體元器件以及聲表面波器件的研制和生產的先進設備。其出色之處在于其高度先進的找平機構，可以實現對多種材料的高精度曝光，包括硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片和寶石片等。

工作方式方面，C-43型9英寸國產高精度光刻機采用一次性光刻曝光，即在一次操作中完成曝光的整個過程。

C-43型9英寸國產高精度光刻機主要技術指標：

設備配備了一件承片臺，其尺寸可以根據用戶的需求進行定制。

曝光頭采用了多點光源曝光頭，其性能特點如下：

出射光斑直徑不超過230mm，采用高壓直流汞燈，功率為350W。

在直徑為230mm的范圍內，光的不均勻性小于±10%。

能夠在真空密封條件下進行曝光。

曝光時間可以通過0.1～999.9秒的時間繼電器進行設定。

汞燈的位置可以通過精密的x、y、z調節裝置進行調整，分別可以調節±5毫米。

具備風扇冷卻裝置。

分辨率不低于5μm。

具備真空吸片功能。

具有真空密封和反吹氣的功能，通過調節密封真空的大小可以實現硬接觸曝光（密封真空≤-0.05 Mpa）、軟接觸曝光（密封真空在-0.05Mpa～-0.02Mpa之間）和微力接觸曝光（密封真空≥-0.02Mpa）。

C-43型9英寸國產高精度光刻機主要配置：

一臺多點光源曝光頭，支持一次性曝光。

曝光面積不小于φ230mm。

曝光不均勻性小于±10%。

曝光強度不低于5mw。

曝光分辨率不高于5μm。

曝光模式為單面曝光。

支持多種掩膜版尺寸，包括3英寸、4英寸、5英寸、6英寸、7英寸、8英寸、9英寸。

基片厚度不超過5mm。

曝光燈功率為350W。

曝光定時范圍為0～999.9秒，可調。

電源要求為單相AC 220V 50Hz，功耗不超過1kW。

需要潔凈壓縮空氣壓力不低于0.4Mpa。

可以實現真空度在-0.07Mpa～-0.09Mpa之間。

設備尺寸為700×650×1200毫米（長×寬×高），重量約為110kg。

備件包括一臺真空泵、一只汞燈和15米φ8氣管。